文献类型：期刊文章

作　　者：付文羽[1] 刘正岐[2]

机构地区：[1]陇东学院物理系,甘肃庆阳745000 [2]陇东学院计算机科学系,甘肃庆阳745000

出　　处：《光子学报》

年　　份：2006

卷　　号：35

期　　号：9

起止页码：1400-1403

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20064610240498)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：根据等倾干涉原理,对高斯光束经薄膜反射后的光强、可见度、条纹分布进行了理论分析,讨论了入射角对光强、可见度分布的影响,相位角对条纹可见度的影响.数值模拟计算表明:沿着垂直于光传播方向的平面,反射光束叠加区域为一圆斑,随着入射角的增大,可见度逐渐减小,光强分布偏离了高斯分布,光斑变大,峰值减小.干涉条纹在空间的分布类似于平面波的薄膜等倾干涉,主要由入射角及薄膜厚度决定.

关 键 词：高斯光束 等倾干涉 可见度 条纹密度  

分 类 号：O436.1]