文献类型：期刊文章

作　　者：张玫[1] 郝晓刚[1] 马旭莉[1] 刘世斌[1] 樊彩梅[1] 孙彦平[1]

机构地区：[1]太原理工大学洁净化工研究所,山西太原030024

出　　处：《稀有金属材料与工程》

基　　金：国家自然科学基金(20006011;20476070);山西省自然科学基金(20021017);回国留学人员基金(2004-24)资助项目

年　　份：2006

卷　　号：35

期　　号：A02

起止页码：249-253

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20064410215201)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000240623800062)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：以石墨为基体材料,采用电沉积和毛细化学沉积方法制备出电活性NiHCF薄膜。通过EDS和SEM考察了薄膜组成及其形貌,在1 mol／l KNO3溶液中采用电势循环可逆地置入与释放K离子,比较了不同制备方法得到的NiHCF薄膜的电活性、离子交换容量、再生性能和循环寿命:在1 mol／l(KNO3+CsNO3)混合溶液中测定了不同浓度下薄膜的伏安特性曲线,分析了薄膜对Cs+／K+的选择性。实验表明,石墨基体上制得的NiHCF膜能实现电化学控制的离子变换(ESIX)过程;两种方法制得的薄膜对Cs+均有较强的选择性,其中电沉积膜的再生速度高于化学沉积膜,而化学沉积膜的寿命高于电沉积膜。

关 键 词：电化学控制离子交换  铁氰化镍膜  电沉积 毛细化学沉积  

分 类 号：O611.3]