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Si_3N_4团簇结构与性质的密度泛函理论研究(英文)
Density functional theory study on the structure and properties of Si_3N_4 clusters
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]兰州理工大学应用物理系,兰州730050 [2]陕西铁路机械工程学院建筑工程系,渭南714000 [3]兰州理工大学有色金属新材料国家重点实验室,兰州730050
基 金:甘肃省自然科学基金(3ZS042-B25-023)
年 份:2006
卷 号:23
期 号:4
起止页码:694-698
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、RSC、核心刊
摘 要:用杂化密度泛函B3LYP在6-31G*的水平上研究了Si3N4团簇可能结构的平衡几何构型和电子结构,得到了24个可能的异构体.Si3N4团簇的最稳定结构是由7个Si—N键和2个N—N键形成的3个四边形构成的三维结构.用自然键轨道方法(NBO)分析了成键性质,结果表明,Si—N键中的Si、N原子的净电荷较大,说明Si—N键中Si、N原子的相互作用主要是电相互作用.最强的IR和Raman峰分别位于1033.40 cm-1,473.63 cm-1处.并且讨论了最稳定结构的极化率和超极化率.
关 键 词:团簇 结构与性质 密度泛函 氮化硅
分 类 号:O561.1] O641[物理学类]
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