期刊文章详细信息
热丝CVD法高速生长金刚石膜研究 ( EI收录)
A STUDY ON THE HIGH GROWTH RATE OF DIAMOND FILM BY HOT-FILAMENT CVD
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]湖南大学材料测试研究中心
基 金：湖南大学科贝尔科学基金
年 份：1996
卷 号：24
期 号：4
起止页码：476-480
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1992、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、INSPEC、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：使用热丝ＣＶＤ法研究了碳源种类、氧气含量、灯丝温度、基底与灯丝间距离及异常辉光放电等对金刚石膜生长速度的影响，在此研究的基础上，优化工艺参数，使热丝ＣＶＤ法生长金刚石膜的速度提高到２０μｍ／ｈ。
关 键 词：化学气相沉积 生长速度 金刚石膜 热丝CVD法
分 类 号：O484.1]
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