文献类型：期刊文章

作　　者：程丙勋[1] 吴卫东[2] 何智兵[2] 许华[2] 唐永建[2] 卢铁城[1]

机构地区：[1]四川大学物理系辐射物理及技术教育部重点实验室,成都610064 [2]中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川绵阳621900

出　　处：《强激光与粒子束》

基　　金：国家863计划项目资助课题

年　　份：2006

卷　　号：18

期　　号：6

起止页码：961-964

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20063510092380)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用直流磁控溅射方法制备了纯Ti膜,研究了不同功率下Ti膜的沉积速率、表面形貌及晶型结构,并对其应力进行了研究。研究表明:薄膜的沉积速率随溅射功率的增加而增加,当溅射功率为20 W时,原子力显微镜(AFM)图像显示Ti膜光洁、致密,均方根粗糙度最小可达0.9 nm。X射线衍射(XRD)分析表明薄膜的晶体结构为六方晶型,Ti膜应力先随溅射功率增大而增大,在60 W时达到最大值(为945.1 MPa),之后随溅射功率的增大有所减小。

关 键 词：应力 六方晶型  直流磁控溅射 Ti膜  直流磁控溅射

分 类 号：O766]