期刊文章详细信息
薄膜应力的研究进展
THE RESEARCH PROGRESS OF THIN FILM STRESS
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室,甘肃兰州730000
基 金：表面工程技术国家级重点实验室基金(51418060305HT6007)资助
年 份：2006
卷 号：12
期 号：2
起止页码：68-74
语 种：中文
收录情况：ZGKJHX、普通刊
摘 要：薄膜应力对薄膜性能具有重要的影响。主要介绍了薄膜应力形成机理和应力实验的研究进展,并探讨了薄膜应力研究的发展趋势。通过选择适当的工艺条件以及表面处理可以改变薄膜的应力分布,提高薄膜的性能。
关 键 词：薄膜 应力 光学薄膜 模型
分 类 号：O484]
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