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期刊文章详细信息

薄膜应力的研究进展    

THE RESEARCH PROGRESS OF THIN FILM STRESS

  

文献类型:期刊文章

作  者:陈焘[1] 罗崇泰[1]

机构地区:[1]兰州物理研究所表面工程技术国家级重点实验室,甘肃兰州730000

出  处:《真空与低温》

基  金:表面工程技术国家级重点实验室基金(51418060305HT6007)资助

年  份:2006

卷  号:12

期  号:2

起止页码:68-74

语  种:中文

收录情况:ZGKJHX、普通刊

摘  要:薄膜应力对薄膜性能具有重要的影响。主要介绍了薄膜应力形成机理和应力实验的研究进展,并探讨了薄膜应力研究的发展趋势。通过选择适当的工艺条件以及表面处理可以改变薄膜的应力分布,提高薄膜的性能。

关 键 词:薄膜  应力 光学薄膜 模型  

分 类 号:O484]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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