文献类型：期刊文章

作　　者：张东平[1] 邵淑英[2] 黄建兵[2] 占美琼[2] 范正修[2] 邵建达[2]

机构地区：[1]深圳大学理学院应用物理系,广东深圳518060 [2]中国科学院上海光学精密机械研究所光学薄膜技术研究与发展中心,上海201800

出　　处：《光电工程》

基　　金：深圳大学科研启动基金资助课题(200617)

年　　份：2006

卷　　号：33

期　　号：6

起止页码：37-40

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20063110043768)、IC、JST、PROQUEST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：在不同的氧分压下用电子束热蒸发的方法制备了氧化锆薄膜。用扫描探针显微镜、X射线衍射仪和分光光度计分别对薄膜的表面粗糙度、微结构和透射谱等特性进行了表征。实验发现,薄膜沉积中氧分压与薄膜性质及微结构有密切的关系。当氧分压由3.0×10-3Pa升高到11×10-3Pa,薄膜的表面粗糙度由3.012nm降低到1.562nm,而薄膜的折射率由2.06降低到2.01。此外,X射线的衍射还发现,薄膜是以四方相为主多相共存的,随着氧分压的增加,特征衍射峰强度逐渐减弱,最后完全变成非晶。

关 键 词：氧化锆薄膜  氧分压 表面迁移率  薄膜特性  

分 类 号：O484.1]