期刊文章详细信息
磁控溅射薄膜的厚度均匀性理论研究
On the Thickness Uniformity of Films Deposited by Magnetron Sputtering
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]华中理工大学固体电子学系
年 份：1996
卷 号：24
期 号：1
起止页码：89-92
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1992、CSCD、CSCD2011_2012、核心刊
摘 要：建立了一个磁控溅射模型，在几种特殊情况下，给出了计算机模拟的薄膜厚度三维分布和二维分布，提出了制备大面积薄膜的条件．结果表明：计算机模拟的结果与实验结果和有关文献的结果一致．
关 键 词：磁控溅射 薄膜厚度 磁场 均匀性
分 类 号：TB43]
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