期刊文章详细信息
电子束曝光技术及其应用综述
Technologies and Applications of Electron Beam Exposure
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]江苏大学应用科学技术学院,江苏镇江212013 [2]江苏大学电气信息工程学院,江苏镇江212013
基 金：江苏大学高级人才启动项目(1283000149);江苏省高校自然科学研究基金项目(04KJB310171)
年 份：2006
卷 号：31
期 号：6
起止页码：418-422
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要：综述了几种目前已得到应用和正在发展中的电子束曝光技术,包括基于扫描电镜(SEM)电子束、高斯电子束、成型电子束和投影电子束曝光技术等,并分析比较了这些技术各自的特点、应用及发展前景。
关 键 词：电子束曝光 微细加工 光刻 纳米加工
分 类 号：TN407]
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