文献类型：期刊文章

作　　者：吴健康[1] 王贤明[2]

机构地区：[1]武汉光电国家实验室 [2]中科技大学力学系,武汉430074

出　　处：《力学学报》

基　　金：国家自然科学基金资助项目(10472036).

年　　份：2006

卷　　号：38

期　　号：3

起止页码：309-315

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：20063110042870)、IC、INSPEC、JST、MR、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：以双电层的Poisson-Boltzmann方程和黏性不可压缩流体运动的Navier-Stokes方程为基础,提出二维均匀微通道周期电渗流的解析解．分析结果表明,周期电渗流速度大小不但与双电层特性和外电场有关,而且与流动雷诺数(Re:ωh2／v)密切相关．随雷诺数增加,双电层滑移速度下降．当离开固壁距离增加时,双电层以外区域流动速度快速衰减,速度滞后相位角明显增加．研究发现在微通道有波浪状速度剖面．给出在低雷诺数时的周期电渗流渐近解,它的速度振幅与定常电渗流速度相同,并具有柱栓式速度分布形态．还得到在微通道宽对双电层厚的比值(κh)很小时,Debye-Huckel近似的周期电渗流解,并与解析解进行分析比较．

关 键 词：微通道 双电层 周期电渗流  雷诺数

分 类 号：O361.4]