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磁控反应溅射制备氧化锡膜的工艺研究
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]东南大学薄膜研究所,南京210096
年 份：1995
卷 号：15
期 号：6
起止页码：415-419
语 种：中文
收录情况：CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、SCOPUS、普通刊
摘 要：介绍了磁控反应溅射制备氧化锡薄膜时，反应气体氧流量对放电参数、薄膜沉积速率及沉积膜性能的影响。指出随氧流量的不同，放电分别处于金属溅射、过渡溅射和氧化物溅射三种不同的模式。三种模式下的放电电压及沉积速率均有较大差别，相应的沉积膜依次具有金属相、金属及氧化物混合相和氧化物相三种不同属性。
关 键 词：反应溅射 氧化锡膜 氧流量 薄膜
分 类 号：O484.1] TN304.21[物理学类]
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