期刊文章详细信息
磁过滤真空弧源沉积技术制备C/C多层类金刚石膜及其摩擦磨损性能研究 ( EI收录)
Fabrication and Tribological Characterization of Multilayer C/C Films Prepared by Filtered Cathodic Vacuum Arc Technology
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]西南交通大学材料先进技术教育部重点实验室,四川省人工器官表面工程重点实验室,四川成都610031
基 金:国家自然科学基金资助项目(30270392);四川省科技攻关项目资助(05GG1084)
年 份:2006
卷 号:26
期 号:2
起止页码:121-124
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:2006249940738)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:采用磁过滤直流阴极真空弧源沉积技术在S i基体和GCr15基体表面制备了C/C多层DLC膜,通过X射线光电子能谱仪分析薄膜结构特征;用原子力显微镜观察C/C多层DLC膜的表面形貌;采用台阶仪测试薄膜厚度;利用纳米硬度仪测试薄膜纳米硬度;在销盘式摩擦磨损试验机上进行C/C多层DLC膜在大气下的摩擦性能评价,同时比较了单层DLC膜、TiN膜和C/C多层DLC膜的耐磨性能.结果表明:C/C多层DLC膜表面光滑、致密,厚度达0.7μm,硬度高达68 GPa,与S iC球对摩时的摩擦系数为0.10左右,耐磨性明显优于单层DLC膜和TiN膜.
关 键 词:磁过滤阴极真空弧源 C/C多层DLC膜 摩擦磨损性能
分 类 号:O484] TH117.3[物理学类]
参考文献:
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引证文献:
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同被引文献:
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