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四角晶相HfO_2(001)表面原子和电子结构研究 ( EI收录 SCI收录)
Geometries and the electronic structures of t-HfO-2 (001) surface
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]复旦大学微电子学系ASIC与系统国家重点实验室,上海200433
基 金:国家自然科学基金(批准号:60176013);上海市科委重点项目(批准号:04JC14013)资助的课题.~~
年 份:2006
卷 号:55
期 号:3
起止页码:1374-1378
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:2006169832071)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCI(收录号:WOS:000235919300063)、SCI-EXPANDED(收录号:WOS:000235919300063)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊
摘 要:采用基于第一性原理的密度泛函理论研究了四角晶相二氧化铪(t-HfO2)体相及其(001)表面的原子几何与电子结构.理论计算结果表明,t-HfO2(001)表面不会产生重构现象.与体相电子结构相比,t-HfO2(001)表面态密度明显高于体相态密度.其次,表面原子的态密度更靠近费米能级(EF),价带往低能量处移动,并有表面态产生.计算结果表明了t-HfO2表面禁带宽度明显低于体相的禁带宽度.t-HfO2(001)的表面态产生以及表面禁带宽度减小是由于Hf原子与O原子的配位数减少,表面原子周围的环境发生变化而引起的.
关 键 词:密度泛函理论 t-HfO2(001) 表面电子结构
分 类 号:O562.1]
参考文献:
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