文献类型：期刊文章

作　　者：周申蕾[1] 朱俭[2] 李学春[1] 林尊琪[1] 戴亚平[2]

机构地区：[1]中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理国家实验室,上海201800 [2]上海激光等离子体研究所,上海201800

出　　处：《中国激光》

基　　金：国家863计划(2004AA842070)资助项目

年　　份：2006

卷　　号：33

期　　号：3

起止页码：321-325

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2006229912055)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：为提高国内惯性约束聚变(ICF)装置的焦斑平滑能力,在对光谱色散平滑(SSD)技术理论分析的基础上,开展相关实验并研究其平滑机制。实验结合另一种焦斑平滑技术———分布式相位板(DPP)比较分析光谱色散平滑技术应用下的焦斑均匀性的变化。实验表明,利用光谱色散平滑技术中的正弦相位调制对光谱展宽并色散后,在色散方向上的焦斑均匀性有明显改善,120μm内的光强调制被平滑,其平滑能力依赖于光谱色散平滑技术参量的选择;焦斑的低频光谱强度变化很小,但中高频光谱强度下降,焦斑质量有良好的改善,焦斑的不均匀性从40%降低到12.5%。结果还表明,光谱色散平滑技术中的关键是色循环的产生,光谱本身加宽产生的平滑作用非常有限。

关 键 词：激光技术 光谱色散平滑  激光辐照均匀性  色循环  

分 类 号：O433.54]