期刊文章详细信息
脉冲激光沉积(PLD)原理及其应用
Application and Mechanism Analysis of Pulsed Laser Deposition
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]昆明理工大学光电子新材料研究所 [2]淮安军星科技学校,江苏淮安223001
年 份：2006
卷 号：26
期 号：1
起止页码：24-27
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：脉冲激光沉积薄膜是近年来发展起来的使用范围最广,最有希望的制膜技术。通过从激光与材料相互作用理论出发,分析了激光烧蚀材料等离子体羽辉的空间运动特征与成分分布,以LCM O为对象,对PLD系统脉冲激光沉积薄膜过程中薄膜质量与衬底温度、靶材-衬底距离、氧压、激光脉冲能量、激光频率等参数关系进行了实验研究,得出在单晶衬底上沉积LCM O薄膜的最佳实验参数。同时用XRD衍射谱和SEM分别对膜的成键情况和表面形貌作了分析,结果表明脉冲激光沉积(PLD)是一种很好的镀膜方法,所制备的膜质量较好。
关 键 词：PLD系统 等离子体 准分子激光 最佳实验参数
分 类 号：TN241]
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