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原子氧对Kapton/Al薄膜性能影响研究 ( EI收录)
Effect of the Atomic Oxygen of Space Environment on Properties of Kapton/Al Film
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]哈尔滨工业大学空间材料与环境工程实验室 [2]真空低温技术与物理国防科技重点实验室,兰州730000
基 金:国防科技重点实验室基金资助(514750301HT-0102)
年 份:2006
卷 号:26
期 号:1
起止页码:29-31
语 种:中文
收录情况:AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、DOAJ、EI(收录号:2006129776480)、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、普通刊
摘 要:模拟空间环境下原子氧辐照条件,通过采用固定的原子氧束流密度进行不同时间辐照试验,研究了温控涂层材料Kapton/A l薄膜的质量损失、光学性能、表面形貌和表面粗糙度的演化规律。试验结果表明,原子氧对材料的剥蚀量与原子氧的作用时间成正比例关系。材料辐照后太阳吸收率发生明显变化,而辐射率几乎不发生变化。辐照后试样表面的粗糙度,是影响太阳吸收率变化主要因素。随着辐照时间的增长,材料表面粗糙度增加,导致太阳吸收率增大。
关 键 词:原子氧 温控涂层 质量损失 表面粗糙度 太阳吸收率
分 类 号:V255[材料类]
参考文献:
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