期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室,北京100029
基 金:国家自然科学基金(批准号:60276019;90207004;60236010;60290081)资助项目
年 份:2006
卷 号:35
期 号:1
起止页码:47-50
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要:微纳加工技术推动着集成电路不断缩小器件尺寸和提高集成度,光学光刻技术依然是目前的主流微纳加工技术,同时有多种替代技术如电子束直写、极紫外光刻和投影电子束技术,文章介绍了自上而下的微纳加工技术的进展及其在微纳器件研制的重要作用.
关 键 词:纳米加工 纳米器件 微纳加工技术 光学光刻技术
分 类 号:TN405]
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