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期刊文章详细信息

聚晶金刚石石墨化温度的研究    

STUDY ON GRAPHITIZATION TEMPERATURE OF POLYCRYSTALLINE DIAMOND

  

文献类型:期刊文章

作  者:王适[1] 孙宝元[2] 王裕昌[1] 张弘弢[2]

机构地区:[1]河南黄河旋风股份有限公司技术中心,461500 [2]大连理工大学机械工程学院,116024

出  处:《超硬材料工程》

年  份:2005

卷  号:17

期  号:5

起止页码:32-35

语  种:中文

收录情况:AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、普通刊

摘  要:通过对PCD复合片中聚晶金刚石层加热前后的XRD图谱,以及在不同气氛环境下的DTA-TG分析,对聚晶金刚石的石墨化温度以及在加热过程中PCD的氧化和石墨化是否同时发生的问题进行了研究。结果表明:(1)聚晶金刚石在加热过程中,同时发生氧化还原反应,即氧化和石墨化同时进行;(2)随着加热温度的升高,聚晶金刚石石墨化程度增加;(3)聚晶金刚石的石墨化温度为960℃。

关 键 词:聚晶金刚石 石墨化温度  氧化  

分 类 号:TQ164]

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同被引文献:

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