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电沉积法制备掺杂钴的氢氧化镍电极材料及其容量特性 ( EI收录)
Study on Ni (OH)2 Electrodes Doping with Co Prepared by Electrochemical Deposition and Their Capacitance Performance
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]北京航空航天大学工程训练中心,北京100083
基 金:国家"863"计划(2002AA32405)
年 份:2005
卷 号:26
期 号:6
起止页码:30-33
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:2006119760640)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:采用电化学共沉积技术在泡沫镍基体上制备了掺杂氢氧化钴的氢氧化镍电极,研究了其容量特性.结果表明:0.5mol/L Ni(NO3)2和0.25mol/L Co(NO3)2溶液以体积比Ni(NO3)2:Co(NO3)2=8.5:1.5混合作为沉积溶液时,所得掺钴的氢氧化镍电极性能最佳.XRD和SEM分析表明:所得产物为掺杂α-Co(OH)2的α-Ni(OH)2,晶粒尺寸为2~10 nm,其粒子形貌呈球状,粒径在0.5~2μm之间.将其组装成C/Ni(OH)2模拟超级电容器,在充放电电流为5mA的条件下,循环40次后比电容为460 F/g,其比电容数值随循环次数增加逐渐趋于稳定.
关 键 词:电化学 共沉积 氢氧化镍 超级电容器 正极
分 类 号:TB383[材料类]
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