期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]长春大学应用物理研究所,吉林长春130022
基 金:吉林省科技厅科研项目(20050415-2)
年 份:2005
卷 号:15
期 号:6
起止页码:46-47
语 种:中文
收录情况:普通刊
摘 要:采用直流磁控溅射方法,以Ar/N2作为放电气体在玻璃基片上沉积了单相γ-′Fe4N薄膜,采用X射线衍射(XRD)和超导量子干涉仪(SQUID)对所制备的样品进行了结构和磁性性能分析,研究了基片温度对薄膜的结构和磁性性能的影响。
关 键 词:基片温度 FE-N薄膜 结构 磁性
分 类 号:O484.1]
参考文献:
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