期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]南开大学微电子系,天津300071
基 金:天津科技攻关重点项目(编号:033187111);南开大学与天津中晶微电子公司合作项目的资助
年 份:2005
卷 号:25
期 号:4
起止页码:531-535
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:分析了CMOS带隙基准电压值的误差,给出了定量的数学表达式和相应的改进方法。在此理论指导下,用0.25μmCMOS工艺设计了一个带隙基准源,并制出芯片。基准电压的设计值为1.2V,实测结果表明,在不使用修正技术的情况下,基准电压值的均方差达3mV,温度系数(从-40°C~100°C)为20ppm/°C,电源抑制比(从2~3.3V)80μV/V,验证了理论分析的正确性。
关 键 词:互补金属氯化物半导体 带隙基准 误差源 均方差
分 类 号:TN432]
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