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基片下磁场对溅射薄膜宏观形貌的影响 ( EI收录)
The Influence of the Magnetic Field under the Substrate on the Appearance of the Films
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]苏州大学物理系,苏州215006 [2]江苏省薄膜材料重点实验室,苏州215006
年 份：2005
卷 号：19
期 号：F11
起止页码：330-331
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、UPD、ZGKJHX、核心刊
摘 要：通过屏蔽传统磁控溅射设备阴极内的磁场和在基片下放置永磁铁，使来自基片下的磁场发挥作用，研究了此外加磁场在溅射过程中对薄膜沉积所产生的影响。用这种方法沉积出的Cu、Al的薄膜的宏观形貌为：膜的中央有一圆斑，在圆斑的外围有环。Al薄膜的中央圆斑处没有物质，为空白圆斑；而Cu薄膜的中央圆斑处有物质。对这一实验现象的产生机理，初步认为是成膜粒子在磁场中表现出的波动性。
关 键 词：磁控溅射 膜厚 梯度磁场
分 类 号：TG174.444]
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