文献类型：期刊文章

作　　者：芮旻[1] 高乃云[1] 徐斌[1] 赵建夫[1] 乐林生[2] 吴今明[3]

机构地区：[1]同济大学污染控制与资源化研究国家重点实验室,上海200092 [2]上海市自来水市北有限公司,上海200086 [3]上海市水务局,上海200003

出　　处：《环境科学学报》

基　　金：国家863高技术研究发展计划资助项目(No.2002AA601130);国家科技攻关计划重大项目资助(No.2003BA808A17)~~

年　　份：2005

卷　　号：25

期　　号：11

起止页码：1457-1463

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、GEOBASE、IC、JST、PROQUEST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、ZR、核心刊

摘　　要：采用UV、H2O2、O3及其联用工艺对自来水本底条件下邻苯二甲酸二甲酯(DMP)的去除效果、特性及降解机理进行了对比和分析.采用单独的UV光照射不能有效去除DMP;而UV-H2O2联用工艺对DMP具有良好的去除效果.在DMP初始浓度约为1.0mg.L-1,UV光强为133.9μW.cm-2,H2O2投加量为20mg.L-1的条件下,30min后DMP的去除效果可以达到73.08%,在降解过程中,监测到DMP氧化产物;当DMP初始浓度约为1.0mg.L-1,O3投加量为3mg.L-1时,单独O3氧化DMP的去除率为55.81%;UV-O3联用工艺对DMP的去除效果略优于单独O3氧化,去除效果提高了10%左右.单独O3和UV-O3氧化在初始氧化阶段可形成不同于UV-H2O2工艺的降解产物;UV-H2O2-O3联用工艺能高效氧化水中DMP,O3的投加不但极大的增强了UV-H2O2工艺的氧化性能,同时抑制了UV+H2O2降解过程中DMP氧化产物的生成,并使生成的产物快速降解.几种氧化工艺对DMP去除效果顺序依次为UV<O3<UV-O3<UV-H2O2<UV-H2O2-O3.

关 键 词：饮用水 邻苯二甲酸二甲酯 高级氧化  降解机理 副产物

分 类 号：X703.1]