文献类型：期刊文章

作　　者：王美英[1] 佘庆彦[1] 刘国栋[1] 瞿雄伟[1]

机构地区：[1]河北工业大学化工学院高分子科学与工程研究所,天津300130

出　　处：《高分子材料科学与工程》

基　　金：河北省自然科学基金资助项目(201006)

年　　份：2005

卷　　号：21

期　　号：6

起止页码：228-231

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、JST、PL、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：采用硅烷偶联剂γ-(甲基丙烯酰氧)丙基三甲氧基硅烷(M PS)处理纳米S iO2,并用FT-IR、ζ-电势、TG、TEM对纳米S iO2的处理效果进行了表征。结果表明,纳米S iO2的接枝率随偶联剂M PS加入量的增加而增加;当pH值为4,M PS/S iO2为50%,反应温度为110℃、时间为90 m in时,纳米S iO2表面M PS的接枝包覆率达到35.7%;此时纳米S iO2粒子在乳液中的分散更为均匀。

关 键 词：MPS 纳米SIO2 表面处理 接枝包覆  

分 类 号：TB383[材料类]