文献类型：期刊文章

作　　者：邱成军[1] 曹茂盛[2] 张辉军[1] 刘红梅[1] 田风军[1] 刘鑫[1]

机构地区：[1]黑龙江大学集成电路重点实验室,哈尔滨150080 [2]北京理工大学材料科学与工程学院,北京100081

出　　处：《材料工程》

基　　金：黑龙江省教育厅计划资助项目(10531129)

年　　份：2005

卷　　号：33

期　　号：10

起止页码：35-37

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、DOAJ、EI(收录号：2005469478152)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：利用交流磁控溅射设备采用金属Ti靶在石英和硅衬底制备掺银TiO2薄膜,并利用SEM,XRD及吸收光谱等方法分析测试TiO2薄膜的性质,探讨了掺银对TiO2薄膜吸收光谱的影响。并通过对甲基橙溶液浓度变化研究了掺银TiO2薄膜光催化特性,分析了掺银对TiO2薄膜增强光催化作用的工作机理,研究结果表明掺银有利于TiO2薄膜对有机物的降解作用。

关 键 词：薄膜  锐钛矿相 射频磁控溅射 光催化活性

分 类 号：TQ134.17]