文献类型：期刊文章

作　　者：王丽伟[1] 徐征[1] 滕枫[1] 张福俊[1] 姜薇薇[1] 孟立建[2]

机构地区：[1]北京交通大学光电子技术研究所信息存储与显示重点实验室,北京100044 [2]波尔图理工大学工程学院

出　　处：《中国稀土学报》

基　　金：国家基金(10374001);973(2003CB314707);国家基金-重点项目(10434030);中国博士后基金(2003034324);北京市自然科学基金(2032015)资助项目

年　　份：2005

卷　　号：23

期　　号：5

起止页码：586-589

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：表征陷阱材料的主要物理量是陷阱深度,准确计算出陷阱深度对于研究陷阱材料具有重要的意义。从能带模型出发,利用速率方程分析了整个热释光过程,提出了一种计算稀土材料陷阱深度的新方法,替代以往利用单分子或双分子近似计算陷阱深度的方法。以SrAl2O4∶Eu2+,Dy3+及Sr4Al14O25∶Eu2+,Dy3+材料为研究对象,计算了陷阱深度。研究表明,这种计算方法能更准确、真实地描述其物理过程。

关 键 词：发光动力学 热释发光曲线  陷阱深度  稀土

分 类 号：O433.4]