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期刊文章详细信息

不锈钢衬底的抛光处理对碳纳米管薄膜场发射性能的影响(英文)  ( EI收录)  

Influence of Polishing Process of Stainless Steel Substrates on Field Emission Properties of Carbon Nanotube Films

  

文献类型:期刊文章

作  者:樊志琴[1] 朱庆芳[1] 杨仕娥[2] 姚宁[2] 鲁占灵[2] 张兵临[2]

机构地区:[1]河南工业大学数理系,郑州450052 [2]郑州大学材料物理教育部重点实验室,郑州450052

出  处:《人工晶体学报》

年  份:2005

卷  号:34

期  号:5

起止页码:954-959

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:2005499528944)、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:在抛光的和未抛光的不锈钢衬底上,利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法从甲烷和氢气的混合气体中沉积碳纳米管薄膜,并对其场发射性能进行了研究。实验发现,不锈钢衬底的机械抛光能降低碳纳米管膜的开启场强,增大它的发射电流密度。在同一场强7.5 V/μm下,衬底未抛光样品的电流密度为2.9 mA/cm2,而衬底抛光样品的电流密度达到5.5 mA/cm2。低开启场强和大发射电流密度意味着β增大,说明机械抛光能使碳纳米管膜的β增大。

关 键 词:碳纳米管膜 场发射 MPCVD 拉曼光谱

分 类 号:O462.4]

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同被引文献:

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