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VO_2薄膜对TEACO_2激光响应特性的实验研究 ( EI收录)
Experemental Study of Response Properties of VO 2 Films to TEA CO 2 Laser
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]哈尔滨工业大学光电子技术研究所
基 金：哈尔滨工业大学可调谐(气体)激光技术国防科技重点实验室资助
年 份：1996
卷 号：16
期 号：8
起止页码：1173-1176
语 种：中文
收录情况：AJ、BDHX、BDHX1992、CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、JST、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：报道了ＶＯ２薄膜在ＴＥＡＣＯ２激光照射下的相变特性的实验研究。结果表明：对于本文镀制的ＶＯ２薄膜，在偏置温度为５２°Ｃ条件下，ＴＥＡＣＯ２激光入射能量密度为１５０ｍＪ／ｃｍ２时，可使ＶＯ２薄膜发生相变。响应时间＜５０ｎｓ，恢复时间≈２００μｓ。
关 键 词：薄膜 相变 二氧化钒 红外探测材料
分 类 号：TN214]
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