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回归最优设计在晚稻秧田杂草防除中的应用
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]浙江省杭州市农科所
年 份：1995
卷 号：21
期 号：6
起止页码：24-25
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1992、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要：回归最优设计在晚稻秧田杂草防除中的应用陈传权，俞秀英，高强俊（浙江省杭州市农科所３１０００８）晚稻秧田杂草危害严重，应用除草剂进行除草因施药种类、用药时间及用量不同，直接影响除草的效果及秧苗素质。本试验采用二次饱和Ｄ—最优设计方法［１］，以含有水稻保...
关 键 词：回归最优设计 晚稻 杂草 药剂防治 杀草丹
分 类 号：S451.21]
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