期刊文章详细信息
双层辉光离子渗金属技术中的离子轰击行为
Behavior of Ion Bombardment in Xu-TEC Process
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]太原工业大学表面工程研究所
年 份：1995
卷 号：32
期 号：1
起止页码：29-35
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1992、CAS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：本文运用气体放电理论，对双层辉光离子渗金属工艺条件下，气体的电离度，离子轰击能量及密度、辉光放电功率耗散等方面的一些问题进行了分析与计算。
关 键 词：辉光放电 离子轰击 溅射 离子渗金属
分 类 号：O461.21] TG156.8[物理学类]
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