文献类型：期刊文章

作　　者：王艳辉[1] 王明智[1] 温熙宇[1] 臧建兵[1]

机构地区：[1]燕山大学材料系

出　　处：《无机材料学报》

基　　金：国家8.5重点科技攻关项目

年　　份：1995

卷　　号：10

期　　号：3

起止页码：351-355

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX1992、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、DOAJ、EI、JST、SCIE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：为了防止玻化ＳｉＯ２－Ｎａ２Ｏ－Ｂ２Ｏ３结合剂烧结时对立方氨化硼（ｃＢＮ）的侵蚀，并实现ｃＢＮ晶体与结合剂间的化学键结合，本文用ＤＴＡ、ＸＲＤ、ＳＥＭ、ＥＰＭＡ等研究了Ｔｉ镀层与ＣＢＮ界面在６００～１２００℃温度范围的界面反应过程及界面成分结构特征，讨论了镀ＴｉｃＢＮ与结合剂复合体在烧结过程中的成分结构及性能．结果表明：Ｔｉ镀层与ｃＢＮ晶体在６００℃以上，以反应扩散的形式发生界面反应形成ＴｉＮ，８００℃以上形成ＴｉＢ２及ＴｉＢ，这些在ｃＢＮ表面外延生长的难熔化合物使Ｔｉ镀层与ｃＢＮ牢固结合并阻止了结合剂中的碱性组分对ｃＢＮ的侵蚀，镀ＴｉｃＢＮ晶体与结合剂则由低价的氧化钛为中介实现良好结合．

关 键 词：立方氮化硼 硼硅玻璃 钛镀层  玻化陶瓷  结合剂

分 类 号：TQ174.758]