期刊文章详细信息
低压等离子体结合热解法制备金刚石膜
Diamond Film Growth by Low DC Voltage Plasma CVD Method Assisted with Thermolysis
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]杭州大学特种材料研究所,杭州半导体厂
基 金：国家自然科学基金;浙江省自然科学基金
年 份：1995
卷 号：11
期 号：1
起止页码：1-6
语 种：中文
收录情况：ZGKJHX、普通刊
摘 要：金刚石膜具有与天然金刚石相似的优异特性，预计会有十分广阔的应用前景．本文介绍了一种新颖的金刚石膜生长技术─—强流电子增强化学气相沉积法（ＩＥＣＶＤ），它结合了传统的热丝法和等离子体法各自的优点，成为一种具有较高生长速率，能够制备大面积均匀金刚石膜的技术．对用这种方法制备的金刚石膜进行了喇曼、扫描电镜和Ｘ－Ｒａｙ衍射分析，并对这项技术的优点作了阐述．
关 键 词：金刚石 膜 等离子体法 热解法 低压 生长
分 类 号：O484.1]
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