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期刊文章详细信息

ZnO薄膜的制备和研究进展    

Recent advances and synthesis of ZnO thin films

  

文献类型:期刊文章

作  者:赵玉岭[1]

机构地区:[1]郑州师范高等专科学校物理系,河南郑州450044

出  处:《信阳师范学院学报(自然科学版)》

基  金:河南省自然科学基金资助项目(0424220173)

年  份:2005

卷  号:18

期  号:3

起止页码:344-345

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAB、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、IC、JST、RCCSE、WOS、ZGKJHX、ZMATH、ZR、核心刊

摘  要:ZnO作为一种新型的宽禁带半导体材料,具有很好的化学稳定性和热稳定性,抗辐射损伤能力强,在光电器件、压电器件、表面声波器件等诸多领域有着很好的应用潜力.本文介绍了ZnO薄膜的基本性质以及喷雾热分解、脉冲激光沉积、金属有机物化学气相沉积等制备ZnO薄膜的技术和方法,并着重介绍了在ZnO紫外受激发射和p型掺杂等方面的研究进展.

关 键 词:ZNO薄膜 紫外受激发射  P型掺杂

分 类 号:TN451] O484.4]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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