文献类型：期刊文章

作　　者：吴庆生[1] 丁亚平[1]

机构地区：[1]安徽农业大学应用化学系

出　　处：《光谱学与光谱分析》

年　　份：1995

卷　　号：15

期　　号：4

起止页码：119-124

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX1992、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI、INSPEC、JST、PUBMED、RSC、SCIE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：本文首次用偏最小二乘（ＰＬＳ）法对ＳＡＦ－ＣＴＭＡＢ－Ｗ，Ｍｏ，Ｔｉ混合显色体系的四阶导数光谱进行解析，提出了同时测定痕量钨、钼、钛的计算分析方法。在０．５ｍｏｌ／ＬＨＣｌ介质中，Ｗ，Ｍｏ，Ｔｉ的ＳＡＦ－ＣＴＭＡＢ显色体系的四阶导数光谱摩尔响应系数（双峰）分别为２．３×１０６，２．１×１０６和５．９×１０５，比常规光度法高出４．５～１６．８倍。该法用于合成样品和钢样中钨、钼、钛的同时测定，相对误差在±８％以内。

关 键 词：导数光谱 钨 钼  钛 水杨基荧光酮 钢  

分 类 号：O614.61] O657.32[化学类]