期刊文章详细信息
直流磁控反应溅射沉积ITO透明导电膜的研究
Study of ITO Transparent Conducting Thin Films Deposited by DC Magnetron Reactive Sputtering
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]东南大学薄膜研究所,210096
年 份：1995
卷 号：15
期 号：1
起止页码：72-78
语 种：中文
收录情况：CAS、ZGKJHX、普通刊
摘 要：研究了用铟锡合金靶直流磁控反应溅射制备ITO透明号电膜。介绍了膜的制备工艺和膜的特性。讨论了成膜过程和热处理对膜的电阻率和透光率的影响。
关 键 词：ITO膜 透明导电膜 磁控反应溅射
分 类 号：TN305.92]
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