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期刊文章详细信息

陶瓷靶射频磁控溅射TiO_2薄膜的制备和光催化特性(英文)  ( EI收录)  

Photocatalytic properties of titania thin films by radio frequency magnetron sputtering from ceramic target

  

文献类型:期刊文章

作  者:桑敏[1] 刘发民[1] 丁芃[1] 毋二省[1] 王天民[1]

机构地区:[1]北京航空航天大学理学院凝聚态物理与材料物理研究中心,北京100083

出  处:《功能材料》

基  金:The Aeronautics Science Foundation(03 G51069)

年  份:2005

卷  号:36

期  号:7

起止页码:1126-1130

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:2005369348304)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:本文采用Ti O2陶瓷靶及射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出了一系列透明Ti O2薄膜,利用X射线衍射(XRD)和原子力显微镜(AFM)对不同衬底温度和溅射功率的Ti O2薄膜结构和形貌进行了表征,结果随着溅射条件的不同会出现锐钛矿或锐钛矿-金红石的混合相。利用UV-Vis-Nir分光光度计测得的透射光谱表明随着衬底温度和溅射功率的增加吸收边有一定的红移。薄膜的光催化活性通过对罗丹明B溶液的降解效率来表征,结果表明在550℃和130 W表面出最佳的光催化效果。

关 键 词:TITANIA thin  films  RF  MAGNETRON SPUTTERING ceramic  target  PHOTOCATALYTIC activity  

分 类 号:O484.4]

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