期刊文章详细信息
0．4μm条宽的光刻
PHotolithography of 0. 4μm Linewidth
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区,吉林工业大学
年 份：1994
卷 号：15
期 号：4
起止页码：336-339
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX1992、CAS、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：文章讨论了ＭＪＢ３ＵＶ３００型光刻机的控制调整。以及抗蚀剂工艺条件的改进，消除影响曝光分辨率的驻波和衍射作用，实现了边缘整齐陡直、０．４μｍ条宽的光刻。
关 键 词：光刻 亚微米光刻 光刻胶 ULSI OEIC
分 类 号：TN470.57]
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