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磁控溅射镀膜技术最新进展及发展趋势预测
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]中国石油大学(北京)机电工程学院
基 金：石油大学与江汉机械研究所合作规划成立表面工程中心的预研项目
年 份：2005
卷 号：33
期 号：6
起止页码：73-76
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2004、ZGKJHX、核心刊
摘 要：磁控溅射技术已经成为沉积耐磨、耐蚀、装饰、光学及其他各种功能薄膜的重要手段。探讨了磁控溅射技术在非平衡磁场溅射、脉冲磁控溅射等方面的进步,说明利用新型的磁控溅射技术能够实现薄膜的高速沉积、高纯薄膜制备、提高反应溅射沉积薄膜的质量等,并进一步取代电镀等传统表面处理技术。最后呼吁石化行业应大力发展和应用磁控溅射技术。
关 键 词：发展趋势 镀膜技术 磁控溅射技术 预测 脉冲磁控溅射 反应溅射沉积 表面处理技术 非平衡磁场 功能薄膜 薄膜制备 石化行业 耐磨 耐蚀 高纯 电镀
分 类 号：TQ171.724] TG174.45]
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