期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]华南理工大学微电子学系,广州510640
年 份:2005
卷 号:30
期 号:5
起止页码:62-66
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊
摘 要:随着工艺的发展,器件尺寸的不断缩小,PMOSFET受负温度不稳定性(NBTI)效应影响而失效的现象愈来愈严重,NBTI效应的影响成为器件可靠性的一个焦点问题。本文综述了NBTI效应的产生机理、影响因素、减缓方法及其相关的一些前沿问题。
关 键 词:PMOS场效应晶体管 负温度不稳定性 栅氧化层可靠性 器件失效
分 类 号:TN386]
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