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期刊文章详细信息

PMOSFET的NBTI效应    

NBTI Effects in PMOSFET

  

文献类型:期刊文章

作  者:李若瑜[1] 李斌[1] 陈平[1] 韩静[1]

机构地区:[1]华南理工大学微电子学系,广州510640

出  处:《半导体技术》

年  份:2005

卷  号:30

期  号:5

起止页码:62-66

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、ZGKJHX、核心刊

摘  要:随着工艺的发展,器件尺寸的不断缩小,PMOSFET受负温度不稳定性(NBTI)效应影响而失效的现象愈来愈严重,NBTI效应的影响成为器件可靠性的一个焦点问题。本文综述了NBTI效应的产生机理、影响因素、减缓方法及其相关的一些前沿问题。

关 键 词:PMOS场效应晶体管  负温度不稳定性  栅氧化层可靠性  器件失效  

分 类 号:TN386]

参考文献:

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同被引文献:

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