登录    注册    忘记密码

期刊文章详细信息

SOI高温压力传感器的研究现状    

The Research Status of SOI High-temperature Pressure Sensor

  

文献类型:期刊文章

作  者:张书玉[1] 张维连[1] 张生才[2] 姚素英[2]

机构地区:[1]河北工业大学半导体材料研究所,天津300130 [2]天津大学微电子研究所,天津300072

出  处:《河北工业大学学报》

年  份:2005

卷  号:34

期  号:2

起止页码:14-19

语  种:中文

收录情况:AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、INSPEC、ZGKJHX、ZMATH、普通刊

摘  要:SOI(silicononinsulator)高温压力传感器是一种新型的半导体高温压力传感器,具有耐高温、抗辐射、稳定性好等优点,能够解决石油、汽车、航空、航天等领域对高温压力传感器的迫切需求,在高温领域有很大的潜力.本文论述了SOI材料的制备方法-特别是硅片直接键合技术(SDB),简单介绍了SOI压力传感器的优势、制作工艺以及SOI压力传感器的发展现状.

关 键 词:压力传感器 SOI SiO2层  各向异性腐蚀 硅片直接键合 硅单晶片

分 类 号:TP212]

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心