期刊文章详细信息
Ti/Si(100)体系界面扩散反应动力学研究
A INTERFACE DIFFUSION AND REACTION KINETIC STUDY OF Ti/Si SYSTEM
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]清华大学化学系,北京100084 [2]HP公司
基 金：清华理学院资助
年 份：1994
卷 号：14
期 号：3
起止页码：200-205
语 种：中文
收录情况：CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、SCOPUS、普通刊
摘 要：采用移动边界条件下扩散问题的处理方法，综合界面反应和扩散两个过程对界面硅化物形成的影响，建立起Ti／Si（100）界面扩散反应动力学理论模型，并拟合快速热退火处理后试样界面Auger深度分析谱，得到Ti，Si在相应界质中扩散系数和表现反应活化能。研究结果表明，Ti／Si体系界面TiSi2生成经历了一个由反应动力学控制到扩散控制的过渡。Si从其晶格中解离并扩散到Ti／TiSi2界面是制约扩散过程的关键因素。
关 键 词：界面反应 界面扩散 硅 钛 动力学
分 类 号：O647.1]
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