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期刊文章详细信息

发展中的绝缘体上硅材料技术    

The Developing Silicon-on-lnsulator Material Technology

  

文献类型:期刊文章

作  者:蔡永才[1]

机构地区:[1]四川固体电路研究所

出  处:《微电子学》

年  份:1989

卷  号:19

期  号:5

起止页码:1-7

语  种:中文

收录情况:AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、IC、INSPEC、JST、ZGKJHX、普通刊

摘  要:在高可靠、抗核加固IC和亚微米CMOSFET VLSI电路应用中,绝缘体上硅 (SOI)是一种很有前途的材料技术。本文对形成SOI的各种技术及其优缺点和目前状况以及未来前景作了评述。对国内的SOI研究作了简单的介绍。

关 键 词:绝缘体上硅 半导体材料 SOI技术

分 类 号:TN304.055]

参考文献:

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同被引文献:

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