文献类型：期刊文章

作　　者：陈林森[1] 邵洁[1] 王雪辉[1] 徐兵[1] 解剑峰[1] 沈雁[1]

机构地区：[1]苏州大学信息光学工程研究所,苏州215006

出　　处：《光子学报》

基　　金：教育部优秀跨世纪人才计划支持课题

年　　份：2005

卷　　号：34

期　　号：3

起止页码：346-349

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2004、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：为了实现具有复杂位相结构的二元光束整形元件,提出了采用方光点的激光直写系统来逐点光刻浮雕位相结构的方法,通过双远心投影缩微光路获得5～20 μm方点,光点尺寸对应于最小位相单元,从而获得了位相结构的高质量直写. 分析了高斯光点和方光点位相单元结构对二元整形元件衍射效率的影响,方形两台阶二元整形元件的+1级衍射效率达到31%,给出了实验结果.

关 键 词：二元光学 衍射 位相编码  激光直写

分 类 号：O436.1] TH74]