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射频磁控溅射制备TiO_(2-x)N_x薄膜及其光催化特性研究 ( EI收录)
Photocatalytic property of TiO_(2-x)N_x thin films prepared by r.f. magnetron sputtering
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]北京航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心,北京100083
基 金:国家高技术研究发展计划(863 计划)资助项目(2003AA302320)
年 份:2005
卷 号:36
期 号:3
起止页码:464-466
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号:2005219118406)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:利用射频磁控溅射在玻璃衬底上制备了透明TiO2 和 TiO2-x Nx 薄膜样品,通过 X 射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)及 UV Vis分光光度计等测试手段表征了样品的结构、形貌和光催化性能。结果表明制备的薄膜为锐钛矿相结构。随着 N2/Ar气流比的增大薄膜样品出现新的物相,吸收光谱向可见光方向展宽,在N2/Ar流量比为 3∶100 时,制备的薄膜在可见光区具有很好的光催化性能。
关 键 词:掺氮TiO2薄膜 光催化 磁控溅射
分 类 号:O643]
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