期刊文章详细信息
AZ5214E反转光刻胶的性能研究及其在剥离工艺中的应用 ( EI收录)
Study the performance of AZ5214E image-reversal photoresist and its uses in lift-off technics
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]福州大学电子系,福建福州350002 [2]厦门大学萨本栋微机电中心,福建厦门361005
基 金：国家基金青年基金资助项目(60301006);福建省自然科学基金资助项目(A0310012)
年 份：2005
卷 号：36
期 号：3
起止页码：431-433
语 种：中文
收录情况：BDHX、BDHX2004、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2005219118397)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要：研究了AZ5214E反转光刻胶的性能并选择适当的工艺可制得利于剥离的倒台面,并将其应用于射频MEMS开关的制作中剥离厚 2μm的金薄膜。用扫描电镜(SEM)测出胶的侧壁为倒台面。
关 键 词：AZ5214E 反转 剥离
分 类 号：TM38]
参考文献：
正在载入数据...
二级参考文献：
正在载入数据...
耦合文献：
正在载入数据...
引证文献：
正在载入数据...
二级引证文献：
正在载入数据...
同被引文献：
正在载入数据...
