文献类型：期刊文章

作　　者：覃奇贤[1] 朱龙章[2] 刘淑兰[1] 郭鹤桐[1]

机构地区：[1]天津大学应用化学系,天津300072 [2]上海技术师范学院化工系,201418

出　　处：《物理化学学报》

基　　金：国家自然科学基金

年　　份：1994

卷　　号：10

期　　号：10

起止页码：892-896

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX1992、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EBSCO、IC、INSPEC、JST、PUBMED、RCCSE、RSC、SCI-EXPANDED(收录号：WOS:000207589700006)、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：研究了在普通镀镍溶液中导电性微粒碳化鹤与基质金属镍形成复合镀层的电沉积过程．实验结果表明，导电性的WC微粒在与Ni其沉积形成Ni－WC复合镀层的过程中，也遵循Guglieldri的两步吸附机理，只是在电极表面，WC微粒的弱吸附覆盖度与强吸附覆盖度的比值，校非导电性微粒的复合共沉积体系的要小得多．

关 键 词：镍 碳化钨 复合镀层 电沉积机理  

分 类 号：TQ153.12]