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期刊文章详细信息

酸性化学镀Ni-Cu-P工艺及性能研究    

Study on the technique and properties of acidic electroless Ni-Cu-P plating

  

文献类型:期刊文章

作  者:刘波[1] 黄燕滨[1] 张平[1] 孟昭福[2] 刘德钢[1] 许晓丽[1] 褚庆国[1]

机构地区:[1]装甲兵工程学院材料科学与工程系,北京100072 [2]装甲兵工程学院外训系,北京100072

出  处:《电镀与涂饰》

年  份:2005

卷  号:24

期  号:3

起止页码:18-20

语  种:中文

收录情况:AJ、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、INSPEC、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊

摘  要: 研究了酸性化学镀Ni Cu P镀液的pH值对镀层性能和镀速的影响。采用酸性镀液体系,通过正交实验,确定了化学镀Ni Cu P的工艺配方为:0 3g/LCuSO4·5H2O,25g/LNiSO4·6H2O,30g/L柠檬酸钠,20g/L络合剂,40g/L缓冲剂,25g/LNaH2PO2·H2O,0 16g/L稳定剂,θ80~85℃,pH值5~6,t为2h。通过X射线衍射实验研究了镀层的晶型结构,并对化学镀Ni Cu P镀层与Ni P镀层的极化行为进行了研究。结果表明:所得的化学镀Ni Cu P镀层为非晶态结构;其外观光亮,耐硝酸腐蚀时间大于800s,孔隙率为9级,镀速为8μm/h;Ni Cu P合金镀层比Ni P镀层具有更优异的耐蚀性能。

关 键 词:酸性化学镀 NI-CU-P 正交实验

分 类 号:TQ153.2]

参考文献:

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同被引文献:

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