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期刊文章详细信息

镓络合物稳定性规律及其应用的研究    

A STUDY ON THE STABILITY OF GALLI UM COMPOUNDS

  

文献类型:期刊文章

作  者:李洪峰[1] 刘伯里[1]

机构地区:[1]北京师范大学放辐化研究室

出  处:《同位素》

年  份:1994

卷  号:7

期  号:2

起止页码:65-79

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX1992、CAS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:利用空间堆积模型,对140多种镓络合物的晶体结构数据进行了立体角系数之和的计算,发现存在着一个以0.951(SAS)为中心、以0.075为特征误差的稳定区间,它说明了镓周围配体的堆积程度。利用配体交换反应,对镓络合物进行了研究,实验结果与稳定性规律所预测的结果一致。

关 键 词:放射性药物 镓铬合物  稳定性 应用  

分 类 号:R817.9]

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