文献类型：期刊文章

作　　者：徐克章[1] 史跃林[1] 许贵民[1] 张志安[1] 崔秋华[1]

机构地区：[1]吉林农业大学农学系,长春130118

出　　处：《园艺学报》

年　　份：1993

卷　　号：20

期　　号：1

起止页码：51-55

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX1992、CAB、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：2年试验结果表明,保护地黄瓜叶片净光合速率的变化范围在9～22μmolCO_2m^(-2)s^(-1)之间。光合作用的最适温度为25～33℃;光合作用的温度下限为3～6℃;上限为42～44℃。黄瓜叶片光合作用对温度的反应受生长期间温度条件的影响,昼温为36℃下生长的叶片比28℃下生长的叶片表现为较高的耐高温特性。完全展开10天以内的叶片不仅光合速率高,对温度变化的反应也敏感;衰老(完全展开20天后)的叶片不仅光合速率低,对温度变化的反应也不敏感。 在低温条件下,黄瓜叶片的呼吸作用以及光合作用的光补偿点和光饱和点均较低,并随着温度的增加而增加。但光饱和点达到光合适温后不再增加,超过40℃时呼吸作用开始下降。叶片表观量子产额及光合与呼吸CO_2交换的比值在不同温度条件下呈单峰曲线变化,其峰值的温度低于或接近25℃。

关 键 词：黄瓜 光合作用 呼吸作用  温度

分 类 号：S642.201]