期刊文章详细信息
硅基场发射阴极材料研究进展
Research Progress on Silicon-based Field Emission Cathode Materials
文献类型：期刊文章
机构地区：[1]郑州大学物理系
基 金：河南省自然科学基金(411011800)教育部骨干教师基金资助
年 份：2005
卷 号：5
期 号：3
起止页码：165-173
语 种：中文
收录情况：RCCSE、ZGKJHX、普通刊
摘 要：场发射显示技术在原理上具有多种优越性能,可能在未来平板显示技术中居主导地位。硅基场发射阴极易于与其周边驱动电路实现集成,因而更具有明显的开发前景。在综述硅基场发射阴极材料最新研究进展的基础上,就其所面临的问题、可能的解决方案和未来的发展趋势做出了评述。
关 键 词：硅基场致发射阴极材料 硅尖锥形阴极阵列 场发射
分 类 号：O462.4] TB383[物理学类]
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